キヤノン柳町プロジェクト 研究開発棟

キヤノン柳町プロジェクト 研究開発棟


キヤノン柳町プロジェクト 研究開発棟 データと概要

竣工年:2015年
高さ:地上17階・地下2階
建築主:キヤノン
設計:大林組
施工:大林組

川崎市幸区柳町のキヤノン川崎事業所内に位置す高さ87.5mの高層棟。 生産装置・金型、半導体デバイス、ネットワークカメラなどの研究開発が行われている。

  • キヤノン柳町プロジェクト 研究開発棟2
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    • 写真1建設中の様子

キヤノン柳町プロジェクト 研究開発棟の地図とアクセス

最寄り駅【駅出口】からの所要時間

Yahoo!地図情報より

川崎[西口](9分) 八丁畷[西口](9分) 八丁畷[出口1](9分)

所在地

神奈川県川崎市幸区柳町70-1

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